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半导体设备及材料

  真空设备在半导体行业中的应用愈来愈广泛,例如真空镀膜设备(蒸发,溅射),干法雷设备(ICP,RIE,PECVD),热处理设备(合金炉,退火炉),掺杂设备(离子注入机等)这些真空设备作为半导体技术发展不可或缺的条件必将起到越来越重要的作用。 氦质谱检漏仪现已广泛应用于半导体设备检漏。


  半导体设备及材料需要检漏原因:

  1、半导体设备要求高真空,比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间,耗时耗力;

  2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染,对半导体的特性改变并破坏其性能,因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏;

  3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体,经过氦质谱检漏后,在低漏率真空条件下,这些气体不易外泄,设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物,保障工作人员安全和大气环境。

  4、芯片封装,一旦出现泄漏,芯片就会失效。


  半导体氦质谱检漏有两种方法

  1. 真空法   2.吸枪法

400-886-1758
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